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  事件：公司公告 2022年预计实现盈利收入 16.5~17.2亿元，归母净利润 3.3~4.0亿元，扣非归母净利润 1.6~1.9亿元。

  2022年业绩高增长。公司 2022年营收和归母净利润好于 Wind 一致预期，主要受益于国内半导体行业良好的发展形态趋势，国内半导体行业设施需求增加，同时公司继续加大研发投入，产品竞争力持续增强，进一步拓展客户群体。公司营收扩大的规模效应驱动盈利水平提升，归母利润增速明显快于营收增速。公司 22Q4营收中值预计为 6.94亿元，同比+81%，继续保持快速地增长；22Q4归母净利润中值预计为 1.28亿元。

  公司成立全资子公司以布局高端半导体薄膜沉积设备。公司近日公告拟出资 5亿元设立全资子公司拓荆科技（沈阳）有限公司，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。同日，公司公告公司总经理田晓明、副总经理张孝勇分别辞去公司职务，并分别将担任拓荆科技（沈阳）有限公司总经理和副总经理职务。预计该全资子公司的成立和公司人员调整将完善和提升公司业务发展布局，增强公司纯收入能力，逐步提升公司的综合竞争力。

  公司新拓展 HDPCVD 以及沉积配套设备。除了现有设备产品外，公司还开发了高密度等离子增强化学气相沉积（HDPCVD）设备和紫外线固化处理（UV Cure）设备等新产品。公司的两款 HDPCVD 设备取得了客户订单，其中 PF-300T(单站式）已出货至客户端进行产业化验证。公司 UV Cure 设备已完成设计开发，可以与PECVD 设备成套使用，为 PECVD Lok II、HTN 等薄膜沉积进行紫外线固化处理，已出货至客户端进行产业化验证，并取得了客户订单。

  投资建议：根据业绩预增公告，我们调整盈利预测，预计公司 2022/2023/2024年营收 16.85/25.53/36.70亿元，对应 PS 分别为 19/13/9倍；归母净利润分别为3.59/4.24/6.97亿元，对应 PE 分别为 91/77/47倍。公司作为半导体设备细致划分领域龙头，且产品研制壁垒高，具有很好成长性，维持“买入”评级。

  风险提示：公司新产品研发进度没有到达预期、下游晶圆厂扩产放慢、竞争加剧、贸易摩擦政策加剧风险。

  证券之星估值分析提示拓荆科技盈利能力比较差，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

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